| 加工定制：是 | 品牌：螣芯 | 型号：HS910 |
| 用途：紫外曝光 |
半自动光刻机
主要功能
本设备是我公司专门要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、MEMS、化合物半导体、声表面波器件的研制和生产，该机器是高校、研究所、企业用户优选的高性价比机型。
主要技术参数：
1．曝光类型：单面曝光；双面曝光；双面对准单面曝光 可选
2．曝光面积：160×160mm；210×2100mm；310×310mm；可选
3．曝光照度不均匀性：≤2.5%（(Φ150mm 范围）；
4．曝光强度：≥40mw/cm2可调；
5．紫外光束角：≤2?；
6．紫外光中心波长：365nm；405nm可选
7．紫外光源寿命：≥2万小时；
8．曝光分辨率：0.8μm；
9．曝光模式：可选择一次曝光或套刻曝光；
10．显微镜扫描范围： Y：±30mm；
11．对准范围：X、Y±5mm（移动精度0.5um），Q±6°（移动精度0.001°）
12．对准精度：±0.5um；
13．分离量；0～1000μm可调；
14．接触－分离漂移：≤1μm；
15．曝光方式：真空接触、硬接触、压力接触、接近式；
16.掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″9″×9″13″×13″各一件；
17.标配承片台： 2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸、8 、12、英寸各一件；
18.标准配件可兼容样片厚度：0.1-6 mm；
19.可设计工作厚度：50 mm；
20.对准系统：CCD
