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供应等离子沉积设备SI500/DDEPOLAB 20/预真空室的化学气相沉积设备SI 500PPD

供应等离子沉积设备SI500/DDEPOLAB 20/预真空室的化学气相沉积设备SI 500PPD

SENTECH******的平行板三螺旋天线(PTSA)ICP等离子体源实现了低功率耦合。优异的沉积性能低刻蚀速率,高击穿电压,低应力、不损伤衬底以及在低于100°C的沉积温度下的低界面态密度,使得所沉积的薄膜具有优异的性能。

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联系方式

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    上海 上海 青浦区 海盈路
加工定制:是品牌:德国SENTECH型号:SI 500 PPD
用途:等离子体增强化学气相沉积系统订货号:n货号:n
别名:11111规格:11111是否跨境货源:否

等离子体增强化学气相沉积系统/PECVD

 

德国SENTECH公司SI 500 PPD


主要用于SiO2,SiOxNy,SiNy,a-Si,SiC薄膜的沉积 。适用于2"--8" 样片的薄膜沉积。


- 电源13.56 MHz, 600 W

- 可选低频应力调节

- 基底温度从室温到350℃可控

- 配置预真空锁/Loadlock,带有取放机械手

- 可选在线椭偏测量(SE 401, SE 801)

更多技术资料联系电话:13122976482


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