| 产品特性：研磨抛光 | 加工定制：是 | 品牌：MCF |
| 型号：GNAD | 用途：研磨抛光 | 别名：抛光机 |
| 规格：N |
GNAD 系列高精度研磨抛光设备是 MCF 公司研制的覆盖半导体材料，光电材料等应用领域的精密磨抛设备。主要适用的材料包括：硅，磷化铟，砷化镓，铌酸锂，光纤，碲锌镉等多种材料。
设备主要指标
研磨盘或抛光盘的转速可调节，每分钟 0-120rpm
密夹具压力连续可调，压力范围0-5Kg
非密闭环境操作
有线传输，信号稳定，保护信息安全，避免无线连接造成数据丢失
在线实时磨抛盘温控及冷却功能
多通道进料系统
磨抛盘自动冲洗功能
1、满足芯片或模块的减薄抛光；
2、适用于4/6英寸以下的芯片；
3、精抛后表面粗糙度≤1nm；厚度均匀性≤2um。
